Infrared Spectrometric Ellipsometric Properties of MPCVD Diamond Thin Films
MPCVD金刚石薄膜的红外椭偏光学性能研究

椭圆偏振光谱法是一种非破坏性光谱技术。为了获得微波等离子体化学汽相沉积(MPCVD)金刚石薄膜的最佳沉积条件，用红外 椭圆偏振光谱仪对MPCVD金刚石薄膜的红外光学性能进行了表征测量，并分析了衬底温度和反应室的压强对金刚石 薄膜的红外光学性质的影响。当甲烷浓度不变，衬底温度为750℃，反应室的压强为4.0kPa时，金刚石膜的红外椭偏光学性质达到最 佳，其折射率的平均值为2.393。研究结果表明，金刚石薄膜的光学性能与薄膜质量密切相关，同时也获得了最佳的金刚石薄膜工艺 条件。