全部 标题 作者
关键词 摘要

OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
费用：99美元
投递稿件

查看量下载量

相关文章

更多...

Absorption property in visible region of TiO2-xNx films prepared by reactive sputtering
反应溅射TiO2-xNx膜的可见光吸收性能

Keywords: inorganic non-metallic materials,TiO2 films,nitrogen-doping,mid-frequency alternative reactive magnetron sputtering,absorption in visible region
无机非金属材料,TiO2薄膜,N掺杂,中频交流反应磁控溅射,可见光吸收,反应溅射,可见光吸收性能,sputtering,films,region,visible,property,红移,吸收限,厚度,含量,退火,因素,影响,质量分数,反应气体,结果,研究,分析,膜的成分

Full-Text   Cite this paper   Add to My Lib

Abstract:

用中频交流反应磁控溅射方法制备了N掺杂的TiO2薄膜.利用光电子能谱(XPS)对薄膜的成分进行了分析,并研究了薄膜的可见光吸收性能.结果表明:反应气体中N2的质量分数是影响薄膜中Ti-N键的主要因素;在N2气氛中380℃退火有利于提高N掺杂的含量;厚度的增加使薄膜的吸收性能在紫外到可见光区都有提高;含N量为1.5%的TiO2-xNx薄膜吸收限由TiO2薄膜的387nm红移至441nm.

Full-Text

Contact Us

service@oalib.com

QQ:3279437679

WhatsApp +8615387084133