铁电PbZr_(0.53)Ti_(0.47)O_3薄膜的磁增强反应离子刻蚀

采用磁增强反应离子刻蚀（ＭＥＲＩＥ）工艺获得了铁电ＰｂＺｒ０５３Ｔｉ０４７Ｏ３（ＰＺＴ）薄膜的微细图形．研究了用ＣＨＦ３气体在不同射频功率和气体流量下ＰＺＴ薄膜、Ｐｔ和ＡＺ１４５０Ｊ光刻胶的刻蚀速率以及刻蚀选择性的实验规律．原子力显微镜（ＡＦＭ）结果表明，获得的ＰＺＴ薄膜图形具有较高的各向异性．化学分析电子能谱（ＥＳＣＡ）结果表明，在ＣＨＦ３等离子体中Ｐｔ表面形成了一层碳氟聚合物薄膜，它对Ｐｔ的刻蚀起到钝化和保护的作用，并且最后可以在３００℃热处理３０ｍｉｎ被消除．