%0 Journal Article
%T 不同温度制备氟化镱薄膜的工艺研究
%A 张荣福
%A 秦杨
%J -
%D 2018
%R 10.3969/j.issn.1005-5630.2018.03.016
%X 利用电子束蒸发在硅基底材料上沉积氟化镱（YbF3）薄膜，并对不同沉积温度所得薄膜进行了研究。研究结果表明，在反可见透红外波段上，沉积温度对于YbF3薄膜的物理和光学特性有较大影响。当沉积温度为150℃和180℃时，硅基底上的YbF3薄膜的光学性能和可靠性较差；当沉积温度为220℃和240℃时，硅基底上的YbF3薄膜具有良好的光学性能和可靠性，能适用于不同要求的薄膜产品研制
%K 氟化镱薄膜 电子束蒸发 反可见透红外波段 硅基底 沉积温度
%U http://joi.usst.edu.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20180316&flag=1