%0 Journal Article
%T 掠射角溅射沉积纳米结构氧化钨薄膜
%J 无机材料学报
%D 2018
%R 10.15541/jim20180130
%X 摘要 采用掠射角反应磁控溅射法在室温下沉积了纳米结构氧化钨(WO3)薄膜, 并对薄膜进行热处理。利用场发射扫描电镜(FE-SEM)和X射线衍射仪(XRD)对氧化钨薄膜的形貌和结构进行了表征。当掠射角度为80°时, 采用直流电源沉积的氧化钨薄膜具有纳米斜柱状结构, 而采用脉冲直流电源沉积的薄膜呈现纳米孔结构。纳米薄膜经450℃热处理3 h后, 纳米斜柱彼此连接, 失去规整结构, 而纳米孔结构的孔尺寸变大。XRD分析表明室温沉积的氧化钨薄膜具有无定形结构, 经450℃热处理1 h后, 转变为单斜晶相。具有纳米斜柱状或纳米孔结构氧化钨薄膜的光学调制幅度在波长600 nm时达到60%, 且电致变色性能可逆
%K 氧化钨薄膜
%K 纳米结构
%K 掠射角
%K 磁控溅射
%U http://www.jim.org.cn/CN/abstract/abstract13918.shtml