%0 Journal Article
%T 低温反应溅射沉积α-(Al,Cr)2O3膜
%J 材料研究学报
%D 2018
%R 10.11901/1005.3093.2017.398
%X 使用AlCr合金靶材在高功率脉冲磁控溅射系统中低温反应溅射沉积氧化物薄膜,并与使用纯Al靶反应溅射的薄膜对比。用纳米压痕仪测量薄膜的力学性能,使用扫描电镜(SEM)、掠入射X射线衍射(GIXRD)和能谱仪(EDS)等手段研究了沉积薄膜的表面形貌、相结构和元素组成。结果表明,反应溅射Al时靶表面火花放电严重且工艺不稳定,因此所沉积的薄膜表面粗糙、疏松,硬度低;而反应共溅射AlCr能抑制靶表面火花放电,沉积薄膜平整、致密且硬度高;在540℃和10%氧分压条件下,可沉积出以α-(Al,Cr)2O3为主的刚玉型结构氧化物薄膜
%K 材料表面与界面
%K 氧化物薄膜
%K <i>α</i>-(Al
%K Cr)<sub>2</sub>O<sub>3</sub>
%K 高功率脉冲磁控溅射
%K AlCr合金靶
%K 纳米压痕
%U http://www.cjmr.org/CN/10.11901/1005.3093.2017.398