%0 Journal Article
%T Ni-Ti-Hf合金薄膜的制备与微结构分析
%A 赵春旺
%A ？？
%J 内蒙古大学学报(自然科学版)
%D 2018
%X 采用室温磁控溅射法在涂覆有氮化硅膜的硅片上制备Ni-Ti-Hf合金薄膜,使用扫描电子显微镜和X射线衍射仪分析了制备工艺和退火处理对薄膜形貌和结构的影响.结果表明,室温溅射所得薄膜为富（Ti+Hf）的非晶态,呈柱状生长方式.薄膜厚度随溅射做功呈良好递增关系.溅射态薄膜表面不平整,有明显起伏、裂纹及孔洞等缺陷,致密性较差;退火处理使薄膜发生结晶转变,无裂纹及孔洞等缺陷,致密性大大改善.随Hf含量增加,马氏体相变程度增大、晶格畸变增加
%K Ni-Ti-Hf合金薄膜
%K 磁控溅射
%K 表面形貌
%K 组织结构
%U http://ndxbzkb.imu.edu.cn/oa/DArticle.aspx?type=view&id=20180211