%0 Journal Article
%T 光刻技术与电化学相结合的叉指微电极制备工艺研究
%A 何先维
%A 史国滨
%A 毕洪梅
%A 陈志诚
%J 内蒙古大学学报(自然科学版)
%D 2018
%X 将光刻技术与电化学技术相结合,以AM175型光敏胶为光刻材料,以氧化铟锡(ITO)导电玻璃为基底,摸索与控制实验条件,优化光刻过程的工艺实验参数,实现了共平面的20~200μm的叉指微电极制备.优化的关键工艺参数为365nm的紫外光曝光时间2s,超声清洗7s,碱液Na？？2CO？？3浓度为1.5%.以6mol/L HCl溶液为腐蚀液,-2.5V的恒电位法腐蚀裸露ITO 40s.采用原子力显微镜(AFM)测定微电极的导电层厚度约为160nm,表面粗糙度？？~2.5nm.？？该制备方法操作简单快速、腐蚀效果好、侧蚀程度小等优点
%K 光刻技术
%K 电化学
%K 共平面
%K 叉指微电极
%U http://ndxbzkb.imu.edu.cn/oa/DArticle.aspx?type=view&id=20180205