%0 Journal Article
%T 金属间化合物Ni3Al薄膜的制备及性能研究
%A 王明
%J 功能材料
%D 2012
%X 摘 要: 采用直流磁控共溅射法，在衬底温度为450℃的SiO2基体上制备了厚度为500nm的Ni3Al薄膜，X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)等测试表明，薄膜为(111)取向的L12型晶体结构金属间化合物。采用纳米压痕方法测试了薄膜的力学性能，其硬度为8.00GPa，弹性模量为200GPa。为克服亚微米级薄膜氧化增重难以测量的困难，本文采用四探针测试金属薄膜电阻的方法，间接给出了薄膜的腐蚀性能和高温氧化程度。结果表明，Ni3Al金属间化合物薄膜的氧化速率为2.28×10-13g2cm-4s-1，薄膜具有良好的高温抗氧化性能
%K Ni3Al薄膜
%K 磁控溅射
%K 微观结构
%K 高温氧化性能
%K 力学性能
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract10580.shtml