%0 Journal Article
%T KH550修饰Al2O3及其对PI/Al2O3薄膜性能的影响
%A 刘立柱
%A 李园园
%A 翁凌
%J 功能材料
%D 2014
%X 本文通过调整KH550的含量对Al2O3粉体表面进行改性，并用红外光谱(FT-IR)和X射线衍射(XRD)对改性后的粉体进行表征，表征结果显示KH550成功的键合到Al2O3粉体表面。然后分别使用Al2O3以及改性Al2O3制备了一系列无机粉体含量为16wt%的PI复合薄膜，通过扫面电子显微镜(SEM)对复合薄膜的断面微观形貌进行表征，并对复合薄膜的力学性能和击穿场强进行测试。测试结果显示KH550的含量对无机粉体分散情况有较大影响。当KH550含量为2wt%时，PI/KH550-Al2O3复合薄膜的拉伸强度和断裂伸长率最优，分别为：130.25MPa、11.79%。与PI/Al2O3薄膜相比，拉伸强度和断裂伸长率分别提高了22.8%、44.49%，击穿场强与其相近
%K PI
%K KH550
%K Al2O3
%K 复合薄膜
%K 力学性能
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract10804.shtml