%0 Journal Article
%T 射频磁控溅射法制备La0.9Sr0.1Ga0.8Mg0.2O3-δ电解质薄膜的研究
%A 于洁
%A 孙红燕
%A 林航昇
%A 陈秀华
%A 马文会
%J 功能材料
%D 2011
%X 本文采用射频磁控溅射法成功地在多孔La0.7Sr0.3Cr0.5Mn0.5O3-δ（LSCM7355）阳极基底上制备了致密的LSGM电解质薄膜层。研究结果表明：当溅射功率为210W、基底温度为300℃、溅射气氛氩气压强为5Pa、溅射时间为12h，得到表观形貌较好、厚度约为10μm的LSGM电解质薄膜。在1000℃空气气氛中退火2h后，电解质薄膜物相结构符合多晶态钙钛矿型结构
%K 固体氧化物燃料电池
%K LSGM
%K RF磁控溅射
%K 薄膜
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract11153.shtml