%0 Journal Article
%T 碲锌镉晶片机械研磨和机械抛光工艺研究
%A 张继军
%A 彭兰
%A 王林军
%A 闵嘉华
%J 功能材料
%D 2011
%X 本文研究了碲锌镉(CZT) 晶片表面的机械研磨和机械抛光工艺。采用不同粒度的Al2O3磨料对CZT晶体表面进行机械研磨和机械抛光，并研究了工艺参数变化对CZT晶体表面质量、粗糙度、研磨速度和抛光速度的影响。结果表明：机械研磨采用粒度2.5?m的Al2O3磨料，最佳的研磨压力和研磨盘转速分别为120 g/cm2和75r/min，研磨速度为1?m/min；机械抛光采用粒度0.5?m的Al2O3抛光液，最佳的抛光液浓度为6.5wt%，抛光速度为0.28?m/min。AFM测试得到机械研磨后晶片表面粗糙度Ra值为13.83nm，机械抛光4小时后，Ra降低到4.22 nm
%K 碲锌镉
%K 机械研磨
%K 机械抛光
%K 研抛速度
%K 粗糙度
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract10741.shtml