%0 Journal Article
%T 基底温度复合控制对化学气相沉积纳米金刚石薄膜的影响
%A 张湘辉
%A 汪灵
%J 功能材料
%D 2012
%X 本文采用自主研制的具有基底温度开-闭环复合自动控制系统的直流弧光放电PCVD设备，当开环流量不同时，在硬质合金基体表面分别进行了纳米金刚石薄膜制备研究。并采用SEM、XRD，激光Raman光谱仪对所制备薄膜的形貌、物相，品质进行了分析。研究结果表明：当开环流量从10→5→15→20 ml/min变化时，所制备纳米金刚石薄膜的表面粗糙度及石墨成份会随之增加，金刚石晶粒转变为以(110)面生长为主，且尺寸增大；并加剧了硬质合金基体中Co相粘结剂向基体表面的扩散。温控中基底温度的波动（稳定性）是影响纳米金刚石薄膜生长性能的主要原因
%K 直流弧光放电等离子体化学气相沉积法
%K 纳米金刚石薄膜
%K 基底温度
%K 开-闭环复合控制
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract11671.shtml