%0 Journal Article %T Si 衬底上RF磁控溅射MgO薄膜的研究 %A 侯捷 %J 功能材料 %D 2010 %X 本文采用射频磁控溅射(rf magnetron sputtering)在Si(100)衬底上生长得到MgO薄膜。将在不同气压和Ar分压条件下得到的样品在氧气氛围下1000oC退火并进行X射线衍射(XRD)分析,结果表明溅射总气压和O2分压影响MgO薄膜的择优取向,控制总气压和Ar分压可以控制MgO薄膜的晶格取向,Si衬底取向也对薄膜的择优取向产生影响。通过扫描电子显微镜(SEM)分析发现,MgO薄膜经过高温退火形成结晶并产生了表面裂纹 %K 射频磁控溅射 MgO XRD SEM %U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract12073.shtml