%0 Journal Article
%T 用PECVD制备高抗腐蚀性能SiNx薄膜的工艺研究
%A 刘瑞文
%A 欧毅
%A 焦斌斌
%A 陈大鹏
%J 功能材料
%D 2010
%X 本文研究了一种可抗高温强碱溶液腐蚀的等离子增强化学气相淀积（PECVD）氮化硅薄膜的生长工艺。文中通过X射线光电子能谱（XPS）、椭圆偏振仪、湿法腐蚀等手段分析了所生长薄膜的元素含量、折射率、抗腐蚀特性等性质随淀积工艺条件的改变所产生的变化。制备出的氮化硅薄膜可在高温强碱溶液（70℃、33.3% KOH溶液）中支撑12小时而无明显变化，并实现自支撑全镂空薄膜
%K 等离子增强化学气相积淀（PECVD）
%K SiNx薄膜
%K 湿法腐蚀
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract11785.shtml