%0 Journal Article
%T 极端电场环境激励下的VO<sub>2</sub>相变性能研究与应用
%A 何长安
%A 娄华康
%A 孙肖宁
%A 曲兆明
%A 杨鸿鸣
%A 王庆国
%A 邹俊
%J 功能材料
%D 2020
%R 10.3969/j.issn.1001-9731.2020.01.010
%X 为揭示VXOY薄膜场致相变规律,推广钒氧化物应用于卫星控制系统,指导氧化钒规模制备,将磁控溅射法和真空退火工艺相结合,在Al2O3陶瓷基片上制备出VXOY薄膜,降低了实验对仪器精度的要求,提高了实验的成功率。对基片进行磁控溅射镀膜,在管式炉中进一步氧化处理生成表面均匀的V2O5,然后进行高温退火处理,对不同退火条件下的生成的薄膜进行了XRD表征。测得了电场激励下VXOY薄膜的相变现象,验证了电场激励下焦耳热并非薄膜相变的主导因素;总结了不同组分下VXOY薄膜的相变规律,研究了不同V6O13含量对VO2薄膜临界相变电压的影响规律,可指导VXOY薄膜应用于微纳卫星等极端环境下的设备控制系统
%K 氧化钒薄膜
%K 微纳卫星设计
%K 场致相变
%K 卫星控制系统
%K 晶体生长
%K XRD
%K 溅射气压
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract17913.shtml