%0 Journal Article
%T 直流脉冲磁控溅射铜膜的结构与性能研究
%A 张旭海
%A 朱迪
%A 蒋建清
%A 谈淑咏
%A 陈健
%J 功能材料
%D 2017
%R 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.02.026
%X 采用直流脉冲磁控溅射法制备铜膜,利用X射线衍射法分析薄膜相结构,通过扫描电镜观察薄膜形貌,基于纳米压痕载荷-位移曲线计算薄膜的硬度、弹性模量和接触刚度,同时采用显微硬度法测量薄膜硬度,系统研究了溅射功率和偏压对铜膜结构和力学性能的影响。结果表明,通过纳米压痕载荷-位移曲线计算薄膜力学性能是可靠的。随着溅射功率的增大,铜膜生长取向几乎无变化,均呈无择优生长状态,弹性模量、接触刚度基本不变,硬度略有减小;偏压增大会使铜膜呈现明显的(111)取向生长,接触刚度、弹性模量和硬度呈下降趋势
%K 铜膜
%K 纳米压痕
%K 弹性模量
%K 硬度
%K 接触刚度
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract16840.shtml