%0 Journal Article
%T 磁控溅射法制备Al<i><sub>x</sub></i>CoCrFeNi高熵合金薄膜的微观组织和力学性能研究
%A 何代华
%A 刘平
%A 刘新宽
%A 张柯
%A 李伟
%A 陈小红
%A 马凤仓
%A 黄纯可
%J 功能材料
%D 2017
%R 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.06.026
%X 利用磁控溅射工艺制备了不同Al含量的(0～20%(原子分数))AlCoCrFeNi高熵合金薄膜,研究了Al含量对AlCoCrFeNi高熵合金薄膜微观结构和力学性能的影响。结果表明,Al元素的加入,使得原CoCrFeNi四元合金薄膜中的(200)峰消失,AlxCoCrFeNi薄膜呈现出(111)晶面的择优生长取向。AlxCoCrFeNi合金薄膜形成了面心立方单一均匀的固溶体。Al元素的加入起到了固溶强化的作用,使AlxCoCrFeNi薄膜硬度相对于CoCrFeNi合金薄膜整体提高了1～2 GPa。当Al含量为0.8时,薄膜的柱状晶宽度达到最小,Al0.8CoCrFeNi薄膜在Hall-Petch关系作用下硬度显著增加,达到最大值18.7 GPa
%K Al<i><sub>x</sub></i>CoCrFeNi高熵合金薄膜
%K 微观组织
%K 力学性能
%K 磁控溅射
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract17279.shtml