%0 Journal Article
%T 直流/射频耦合反应磁控溅射法类金刚石薄膜的制备与分析
%A 何智兵
%A 刘磊
%A 张玲
%A 易勇
%A 杜凯
%A 王涛
%J 功能材料
%D 2017
%R 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.01.038
%X 采用直流/射频耦合反应磁控溅射法在Si(111)衬底上使用高纯石墨靶材制备出了类金刚石(DLC)薄膜。分别采用表面轮廓仪、激光拉曼光谱、傅里叶变换红外光谱、X射线光电子能谱、扫描电镜、白光干涉仪、纳米压痕对薄膜的性能进行了表征和分析。研究了沉积过程中不同工作气压(0.35～1.25 Pa)对薄膜沉积速率、结构、表面形貌及力学性能的影响。研究表明,随着工作气压的升高,薄膜的沉积速率逐渐减小,薄膜中sp3含量先升高后降低;薄膜表面粗糙度随工作气压的升高呈现出先降低后升高的趋势,且在工作气压为1.0 Pa时达到最小值6.68 nm;随着工作气压的升高,薄膜的显微硬度与体弹性模量先升高后降低,且在工作气压为1.0 Pa时分别达到最大值11.6和120.7 GPa
%K 耦合反应磁控溅射
%K 类金刚石薄膜
%K 工作气压
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract16899.shtml