%0 Journal Article
%T (AlCrTiZrNb)N/Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>纳米多层膜的微观结构和力学性能研究
%A 何代华
%A 刘平
%A 刘新宽
%A 张柯
%A 李伟
%A 翟晴晴
%A 陈小红
%A 马凤仓
%J 功能材料
%D 2019
%R 10.3969/j.issn.1001-9731.2019.04.024
%X 采用多靶磁控溅射系统,使用AlCrTiZrNb合金靶和Si靶制备了不同Si3N4厚度的(AlCrTiZrNb)N/Si3N4纳米多层膜,样品基底为单晶硅。通过X射线衍射仪(XRD)、高透射电子显微镜(HRTEM)、扫描电子显微镜(SEM)和纳米压痕仪对样品进行微观组织的表征和力学性能的测量。实验结果表明,随着Si3N4层厚度的增加,样品的结晶度和力学性能均先增加后减小,XRD图谱中出现面心立方相结构。在Si3N4层厚度为0.5 nm时,(111)衍射峰强度达到最大值。说明薄膜结晶度最强,薄膜的硬度和弹性模量也达到最高值,分别为30.6,298 GPa。通过对样品的横截面的形貌观察,发现当Si3N4层厚度为0.5 nm时,多层膜的多层结构生长良好。在(AlCrTiZrNb)N层的模板作用下,Si3N4层从非晶态转变为面心立方结构,与(AlCrTiZrNb)N层之间形成共格外延生长结构,(AlCrTiZrNb)N/Si3N4纳米多层膜的强化可归因于两调制层之间形成的共格界面
%K (AlCrTiZrNb)N/Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>纳米多层膜
%K 微观结构
%K 力学性能
%K 共格外延生长
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract16559.shtml