%0 Journal Article
%T Si含量对NbN/CrSiN纳米多层膜微观结构和力学性能的影响
%A 何代华
%A 刘平
%A 刘新宽
%A 张柯
%A 李伟
%A 袁庆
%A 陈小红
%A 马凤仓
%J 功能材料
%D 2018
%R 10.3969/j.issn.1001-9731.2018.01.009
%X 采用磁控溅射工艺在Si底片依次沉积NbN、CrSiN纳米层,通过改变靶材的Si含量,制备出一系列NbN/CrSiN纳米多层膜。分别采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、高透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究Si含量对NbN/CrSiN纳米多层膜显微结构和力学性能的影响。实验结果表明,随着Si含量的增加,NbN相的结晶程度先增加后降低,薄膜的硬度和弹性模量也是先增高后降低,在n(Si):n(Nb)=3:22时获得最高硬度和弹性模量,分别为31.92和359.3 GPa。显微结构表征表明,当n(Si):n(Nb)=3:22时,NbN/CrSiN纳米多层膜柱状晶生长状况最好,CrSiN层在NbN层的模板作用下转变为面心立方结构,并与NbN层呈共格外延生长。薄膜力学性能的提高主要与CrSiN与NbN形成的共格外延生长结构有关
%K NbN/CrSiN纳米多层膜
%K 微观结构
%K 力学性能
%K 共格外延生长
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract16747.shtml