%0 Journal Article
%T 光诱导液相沉积Ni/Cu应用于晶硅电池栅线的制备
%A 刘邦武
%A 夏洋
%A 宁婕妤
%A 李超波
%J 功能材料
%D 2014
%X 摘 要： 本文采用光诱导液相沉积（LIP）的方法制备了Ni、Cu薄膜，并进一步讨论了沉积温度等相关因素对薄膜成分与形貌的影响。采用X射线衍射仪（XRD）和扫描电子显微镜（SEM）、四探针测试仪等分别对薄膜的成分、形貌、电阻率、非均匀性等进行表征。结果显示，制备的Cu膜电阻率为1.87×10-8 Ω?m、非均匀性为2.64%。此外，本文将制备的Ni/Cu工艺应用于制备晶硅电池的栅线电极，用I-V测试仪测试电池参数，填充因子高达77.8%
%K 镍膜
%K 铜膜
%K 光诱导电沉积
%K 表征
%K 制备
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract10977.shtml