%0 Journal Article
%T 直流磁控溅射法制备PEN/Ti复合振膜
%A 丁雨田
%A 孟斌
%A 许佳玉
%A 陈建军
%A 马元俊
%A 高钰璧
%J 功能材料
%D 2018
%R 10.3969/j.issn.1001-9731.2018.05.029
%X 采用直流磁控溅射法在聚2,6-萘乙酸乙二醇酯(PEN)柔性薄膜衬底上制备了纯钛薄膜。研究了溅射气压与溅射功率对薄膜微观组织及硬度的影响,确定了最佳的溅射工艺参数。研究表明,直流磁控溅射法在PEN柔性衬底上沉积的钛膜是一种纳米薄膜且为多晶薄膜;在溅射气压为8.5×10-1 Pa、溅射功率为140 W时,直流磁控溅射法制备的钛镀层晶粒尺寸细小且均匀分布在衬底上,镀层硬度高,复合振膜宏观表面平整,结合力良好,此工艺参数为最佳的工艺参数,薄膜沉积速率为2.11 nm/s
%K 复合振膜
%K 弹性模量
%K 磁控溅射
%K 工艺参数
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract17052.shtml