%0 Journal Article
%T HfN/HfB<sub>2</sub>纳米多层膜结构调制及其力学性能
%A 余建刚
%A 时永治
%A 李德军
%A 聂宇尧
%A 董磊
%J 功能材料
%D 2018
%R 10.3969/j.issn.1001-9731.2018.02.032
%X 为了进一步了解调制周期对HfN/HfB2纳米多层膜力学性能的影响,利用多靶磁控溅射技术,在Si(100)基底上制备了一系列具有相同厚度不同调制周期的HfN/HfB2纳米多层膜。利用XRD、TEM、XP-2台阶仪、纳米压痕仪及摩擦试验机分别分析了多层膜的结构特征、力学性能和室温下摩擦性能。结果表明,室温下沉积的多层膜呈现出结晶/非晶的混合结构;随着调制周期的增大,多层膜的结晶程度先增加后降低,其硬度和弹性模量也呈现出先升高后降低的趋势;当调制周期为40 nm时,多层膜的硬度和弹性模量均达到最大值,分别为(36.72±1.3)和(378.41±5.6) GPa,并且此时多层膜具有较高的膜基结合力(Lmax=67.3 mN)和较低的平均摩擦系数(0.061);在调制周期为20 nm时,多层膜的残余应力达到最小值为-0.82 GPa;经过高温退火后,多层膜的硬度和弹性模量均无明显变化,说明其具有良好的热稳定性;多层膜的结构和力学性能随调制周期的变化归因于晶粒的细化
%K 磁控溅射
%K HfN/HfB<sub>2</sub>纳米多层膜
%K 调制周期
%K 力学性能
%U http://www.gncl.cn/CN/abstract/abstract16809.shtml