%0 Journal Article
%T 全氟羧酸在185 nm真空紫外光下的降解研究
%A 刘剑
%A 张彭义
%A 陈静
%J 环境科学
%D 2007
%X 以全氟辛酸为代表的全氟羧酸是一类新的持久性有机污染物，广泛地存在于各种环境介质.研究了全氟辛酸、全氟庚酸、全氟己酸、全氟戊酸和全氟丁酸等5种全氟羧酸在185 nm真空紫外光下的光降解行为，以发展1种有效降解全氟羧酸的方法.结果表明，全氟羧酸在185 nm紫外光照下发生显著地降解并生成氟离子，而在254 nm紫外光照下降解不明显. 反应6h后, 全氟丁酸降解率达到60%以上；而其它4种全氟羧酸的降解率达到90%以上，脱氟率在21%～71%之间，表现出随碳链增长而降低的趋势. 氮气、空气、氧气等3种反应气氛对全氟羧酸在185 nm紫外光下的降解与脱氟没有显著影响. LC/MS分析表明，全氟辛酸光降解时逐级生成短链的全氟庚酸、全氟己酸、全氟戊酸和全氟丁酸. 全氟羧酸在185 nm光照下首先发生脱羧反应，脱羧后的自由基与水反应生成少1个碳原子的全氟羧酸和氟离子
%K 全氟羧酸 全氟辛酸 光解 脱氟 真空紫外光 持久性有机物
%U http://www.hjkx.ac.cn/hjkx/ch/reader/view_abstract.aspx?flag=1&file_no=20070414&journal_id=hjkx