%0 Journal Article
%T MTS/H2体系CVD SiC的气相分析
%A 张立同
%A 成来飞
%A 赵春年
%A 卢翠英
%J 无机材料学报
%D 2010
%X 摘要： 采用CG/MS定性定量分析了MTS/H2体系CVD SiC的气相组成, 考察了沉积温度、总压和流量对气相组成的影响, 从反应速率和分子浓度大小的角度出发, 分析了MTS在H2中的分解步骤. 主要结论如下: (1) 检测到CH4、C2H6、C2H4、C3H6、C2H2、MTS、SiCl4和CH3SiHCl2物质, 其中CH4和SiCl4的含量较高. (2) 体系温度、总压和总流量对气相组成有显著影响, 其影响规律与热力分析结果一致. (3) MTS主要以Si-C键断裂引发分解反应, 经历与原反应气反应、中间物质和副产物生成等主要阶段, CH3？C2H6？C2H4？C2H2是生成烷烃化合物的主要路径.
%K GC/MS
%K 气相分析
%K CVD SiC
%K MTS/H<sub>2</sub>
%U http://www.jim.org.cn/CN/10.3724/SP.J.1077.2010.00845