%0 Journal Article
%T HFCVD金刚石膜过程的气氛模拟与分析
%A 戚学贵
%A 陈则韶
%A 常超
%A 王冠中
%A 廖源
%J 无机材料学报
%D 2003
%X 摘要： 对热丝法化学气相沉积金刚石膜过程的气氛进行了模拟与分析.使用GRI-Mech3.0甲烷燃烧过程C/H/O/N四元体系热化学反应机理和动力学数据,模拟并分析了HFCVD金刚石膜的C/H气相化学反应,通过对反应流的简单模拟得到了衬底位置气相组成,结果与前人实验数据吻合.探讨了灯丝温度、碳源浓度和碳源种类等因素变化对衬底位置气相组成的影响.结果表明甲基是金刚石膜生长最主要的前驱基团,其作用远高于乙炔,而超平衡态原子氢的存在对金刚石膜的质量至关重要.
%K 热丝法化学气相沉积
%K 金刚石膜
%K 气相化学
%K 前驱基团
%U http://www.jim.org.cn/CN/abstract/abstract9055.shtml