%0 Journal Article
%T 电镀法制备CoNiMnP永磁薄膜阵列的研究
%A 蒋洪川
%A 张金平
%A 张万里
%A 张文旭
%A 彭斌
%A 杨仕清
%J 无机材料学报
%D 2003
%X 摘要： 采用光刻和电镀技术在5mm×5mm×0.2mm的硅片上设计并制备了2000个大小为50μm×50μm的CoNiMnP垂直各向异性永磁薄膜阵列,并对该薄膜陈列的组成、磁性能等进行了分析与测试.结果表明:薄膜阵列的组成为:Co90.32wt％、Ni7.83wt％、Mn0.74wt％、P1.11wt％,阵列垂直方向磁性能为:Hc=59.7kA/m,Br=0.53T,(BH)max=11.3kJ/m3;阵列水平方向磁性能为:Hc=27.8kA/m,Br=53715T,(BH)max=1.585kJ/m3.
%K CoNiMnP永磁薄膜阵列
%K 电镀
%K 垂直各向异性
%U http://www.jim.org.cn/CN/abstract/abstract9691.shtml