%0 Journal Article
%T 碳源流量对碳纳米管厚膜形貌和结构的影响
%A 孙卓
%A 郭平生
%A 陈奕卫
%A 曹章轶
%J 无机材料学报
%D 2006
%X 摘要： 采用低压化学气相沉?积(LPCVD)在镍片上制备了厚度在400～1000μm范围的碳纳米管(CNTs)薄膜, 研究了碳源(乙炔)流量对碳纳米管薄膜形貌 和结构的影响. 随乙炔流量的增加, 碳纳米管薄膜厚度和产量增大. 电子显微镜和拉曼光谱研究结果表?明, 在乙炔流量为10sccm下制备的碳纳 米管直径分布范围最小(10～100nm), 石墨化程度最高, 缺陷密度最小, 晶形最完整. 随着乙炔流量的增大(30～90sccm), 碳纳米管的直径分布 范围增大(10～300nm), 石墨化程度降低, 缺陷密度增大, 非晶化程度增加. 因此, 通过碳源流量可以控制碳纳米管薄膜的形貌和结构.
%K 碳纳米管(CNTs)
%K 化学气相沉积(CVD)
%K 扫描电镜(SEM)
%K 透射电镜(TEM)
%K 拉曼光谱
%U http://www.jim.org.cn/CN/abstract/abstract9213.shtml