%0 Journal Article
%T [101]取向Li掺杂ZnO薄膜光学性能的研究
%A 夏义本
%A 李勇强
%A 李英伟
%A 陆液
%A 朱兴文
%J 无机材料学报
%D 2007
%X 摘要： 采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了[101]取向的Li:ZnO薄膜, 研究了该薄膜的光学性能随热处理温度变化的规律. 结果表明, 399nm的发光峰是由Li的杂质能级引起; 与[002]取向的薄膜相比, 未经热处理的[101]薄膜其光学带隙大, 且出现了380nm附近的带边发射(NBE) 峰; 在560～580℃热处理下, 其晶胞变小、光学带隙变窄、360nm 左右的带间发光峰红移; 当热处理温度升至610℃时, 薄膜中再次出现380nm的NBE峰.
%K ZnO薄膜
%K Li掺杂
%K [101]取向
%K PL谱
%U http://www.jim.org.cn/CN/10.3724/SP.J.1077.2007.00359