%0 Journal Article
%T 三嗪对CVD石墨烯n型掺杂的研究
%A 戴丹
%A 江南
%A 刘颖
%J 无机材料学报
%D 2017
%X 摘要： 以化学气相沉积(CVD)制备的单层石墨烯为原料, 小分子三嗪为掺杂剂, 采用吸附掺杂的方式, 在低温下对石墨烯实现n型掺杂。利用拉曼光谱(Raman)、X射线光电子能谱分析(XPS)、原子力显微镜(AFM)、紫外分光光度计(UV)和霍尔效应测试仪(Hall)对样品的形貌、结构及电学性能进行表征。结果表明: 该方法简单安全, 能够对石墨烯实现均匀的n型掺杂, 掺杂石墨烯的透光率达到95%。掺杂后石墨烯的特征峰G峰和2D峰向高波数移动。掺杂180 min后, 载流子浓度达到4×1012/cm2, 接近掺杂前的载流子浓度, 掺杂后的石墨烯在450℃的退火温度下具有可逆能力, 其表面电阻在300℃以下具有较好的稳定性。
%K CVD石墨烯
%K 三嗪
%K n型掺杂
%K 载流子浓度
%K 表面电阻
%U http://www.jim.org.cn/CN/10.15541/jim20160422