%0 Journal Article
%T B2O3-SiO2-Na2O缓释材料的合成工艺参数优化及其缓释机理
%A 崔骏
%A 裴元生
%A 黄长兴
%J 无机材料学报
%D 2019
%X 摘要： 为优化工艺参数、减少原料损失和控制生产成本, 本研究采用单因素法研究不同升温速率、保温时间、熔制温度和起始温度对硼酸盐缓释材料(BCRM)在制备过程中B2O3挥发量和气泡生成情况的影响规律。运用X射线衍射分析、红外光谱和X射线光电子能谱仪表征缓释前后BCRM理化性质变化, 通过Korsmeyer-Peppas模型分析BCRM缓释机理。结果表明, 在起始温度1050 ℃、保温时间2 h和熔制温度1050 ℃的最优工艺参数下, B2O3挥发量可降低至1.08%, BCRM澄清透明, 无气泡生成, 缓释性能良好。此外, 温度会影响BCRM的缓释机理, 在30和35 ℃时, 释放机理为Super Case II转运; 在40 ℃时, 释放机制为non-Fickian扩散。但在不同温度下, 硼累积释放率均高于95%。
%K 硼酸盐
%K 工艺参数优化
%K B<sub>2</sub>O<sub>3</sub>挥发
%K 缓释机理
%U http://www.jim.org.cn/CN/10.15541/jim20180359