%0 Journal Article
%T 工艺参数对a-CNx膜沉积的影响
%A 肖兴成
%A 江伟辉
%A 宋力昕
%A 田静芬
%A 胡行方
%J 无机材料学报
%D 2000
%X 摘要： 研究了基本工艺参数对磁控溅射制备无定形氮化碳（ａ－ＣＮx）薄膜沉积的影响．实验结果表明：Ｎ２流量的增加提高了膜的沉积速率，同时提高了膜中氮含量．溅射功率的提高增加了沉积速率．偏压对硬质膜的制备是一关键的工艺参数，它不仅使薄膜致密、表面光滑，而且还可以提高膜中的Ｎ含量．
%K a－CN<SUB><EM>x</EM></SUB>膜
%K 工艺参数
%K 沉积
%U http://www.jim.org.cn/CN/abstract/abstract10235.shtml