%0 Journal Article
%T 反应溅射NiCrOx薄膜过程及其光学性质的研究
%A 曹韫真
%A 胡行方
%J 无机材料学报
%D 2000
%X 摘要： 研究了反应气体流量对磁控反应溅射ＮｉＣｒＯｘ薄膜成分和光学常数的影响．在反应溅射过程中，ＮｉＣｒ靶随着Ｏ２流量的增大出现毒化现象．在不同氧流量条件下可沉积出近于透明的介电薄膜和不透明的吸收薄膜．对薄膜光学常数的研究可应用到太阳能光谱选择性吸收薄膜的制备．
%K 磁控反应溅射
%K NiCrO<SUB><EM>x</EM></SUB>薄膜
%K 光学常数
%K 光谱选择性吸收表面
%U http://www.jim.org.cn/CN/abstract/abstract11288.shtml