%0 Journal Article
%T WO3/Si纳米晶薄膜的脉冲准分子激光沉积及结构分析
%A 方国家
%A 刘祖黎
%A 姚凯伦
%J 无机材料学报
%D 2002
%X 摘要： 采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术，在Ｓｉ（１１１）单晶衬底上沉积了 ＷＯｘ薄膜．采用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、喇曼光谱（ＲＳ）、付里叶红外光谱（ＦＴ－ＩＲ）及透射电镜扫描附件（ＳＴＥＭ）对不同条件下沉积的样品进行了结构分析．结果表明，氧分压和沉积温度是决定薄膜结构和成份的主要参数．在沉积温度３００℃以上及２０Ｐａ氧压下得到了三斜相纳米晶ＷＯ３薄膜．
%K 三氧化钨薄膜
%K 纳米晶
%K 脉冲准分子激光沉积（PLD）
%K 结构分析
%K Si（111）衬底
%U http://www.jim.org.cn/CN/abstract/abstract10552.shtml