%0 Journal Article
%T 掺硼四面体非晶碳膜的微观结构及光谱表征
%A 朱嘉琦
%A 檀满林
%A 贾泽纯
%A 韩杰才
%A 张化宇
%J 无机材料学报
%D 2008
%X 摘要： 分别采用过滤阴极真空电弧技术制备了不同含硼量四面体非晶碳(ta-C:B)膜, 并用X射线光电子能谱(XPS)、Raman光谱对薄膜的微观结构和化学键态进行了研究. XPS分析表明薄膜中B主要以石墨结构形式存在, 随着B含量的增加, sp3杂化碳的含量逐渐减小, Ta-C:B膜的Raman谱线在含硼量较高时, 其D峰和G峰向低频区偏移, 且G峰的半峰宽变窄, 表明B的引入促进了sp2杂化碳的团簇化, 减小了原子价键之间的变形, 从而降低了薄膜的内应力．
%K 四面体非晶碳(ta-C)
%K XPS
%K Raman光谱
%U http://www.jim.org.cn/CN/10.3724/SP.J.1077.2008.00180