%0 Journal Article
%T 退火温度对宽带脉冲压缩光栅载体金属/介质多层高反膜的影响
%A 关贺元
%A 刘世杰
%A 刘文文
%A 孔钒宇
%A 易葵
%A 晋云霞
%A 吴建波
%J 无机材料学报
%D 2014
%X 摘要： 分别以金(Au)作为金属层材料, 氧化铪(HfO2)与氧化硅(SiO2)作为高低折射率层材料, 利用物理气相沉积方法制备了用于宽带脉冲压缩光栅制作的金属/介质多层高反膜, 研究了退火温度对其表面均方根粗糙度、反射率及抗化学清洗破坏能力的影响。实验结果表明: 退火前后样品表面均方根粗糙度变化很小; 提高退火温度能提高金属/介质多层膜的抗化学清洗破坏能力, 但反射率会随之下降。250℃退火10 h后金属/介质多层膜不仅可以承受住化学清洗过程, 而且反射率下降也比较小, 可以作为金属/介质多层膜的最佳退火工艺。
%K 金属/介质多层膜
%K 脉冲压缩光栅
%K 退火
%K 化学清洗
%K 反射率
%U http://www.jim.org.cn/CN/10.15541/jim20140025