%0 Journal Article
%T Nb2O5纳米线的热氧化生长与光催化性能研究
%A 何婧
%A 杨树林
%A 王钊
%A 胡永明
%A 郭定和
%J 精细化工
%D 2015
%X 采用热氧化技术在金属铌箔片上生长了Nb2O5纳米线，利用X射线衍射光谱、扫描电子显微镜和透射电子显微镜对产物的物相、形貌和微结构进行表征，并研究了纳米线的光吸收与光催化染料降解特性。结果表明，热氧化所得Nb2O5纳米线为四方相结构，直径约为20-60 nm。当氧气流量为25毫升每分钟（sccm）时，纳米线生长致密、长径比高，构成网络结构。随着氧气流量的增加，纳米线的数量和致密程度逐渐下降。紫外可见吸收光谱表明，Nb2O5纳米线为直接带隙半导体，带隙宽度为3.42 eV。此外，Nb2O5纳米线在波长为365 nm的紫外光照射下对亚甲基蓝、甲基橙和罗丹明B等染料均具有光催化降解性能，效率因子分别为-0.025、-0.021和-0.008 min-1
%K 半导体纳米线 五氧化二铌 热氧化 光催化 光吸收
%U http://www.finechemicals.com.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=201501210068&flag=1