%0 Journal Article %T 多弧离子镀制备 TiN 涂层的高温氧化行为分析 %A 万 强 %A 刘辉东 %A 杨 兵 %A 罗 畅 %A 蔡 耀 %A 陈燕鸣 %J 中南民族大学学报(自然科学版) %D 2015 %R 10.12130/znmdzk.20150414 %X 利用多弧离子镀技术沉积 TiN 涂层,并在空气中对该涂层进行了500 ~ 680℃范围内的氧化实验. 通过 SEM 与 XRD 技术分析了实验制备的 TiN 涂层及其氧化产物的结构形貌,结果表明:多弧离子镀技术所沉积的 TiN 涂层表面较为粗糙,存在大量颗粒与凹坑; TiN 涂层在空气中的氧化产物为 TiO2,550℃时存在较轻程度的氧化行 为,随着温度的升高,氧化作用加剧,在温度为650℃时 TiN 涂层氧化程度加深,但剥落并不明显,当温度超过650℃ 达到680℃,TiN 涂层完全氧化,部分区域因为应力作用而发生严重剥落 %K TiN 多弧离子镀 氧化行为 %U http://znzk.scuec.edu.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20150414&flag=1