%0 Journal Article
%T ZnO纳米线表面改性及其光学性质
%A 房丹
%A 方铉
%A 李浩林
%A 王新伟
%A 王晓华
%A 王登魁
%A 胡颖
%A 贾慧民
%A 魏志鹏
%J 中国激光
%D 2018
%R 10.3788/cjl201845.1003002
%X 利用Ar+等离子体处理ZnO纳米线, 通过对不同处理时间后的样品进行变温光谱测试, 分析了处理前后ZnO发光性质的变化。结果表明：随着处理时间的增加, 其室温带边发光强度先增加后减小, 处理90 s时是原生样品的2.45倍, 位于可见区的缺陷发光得到了抑制。通过10 K下发光谱的对比, 分析了等离子体作用的机理。当处理时间较短时, Ar+等离子体可以有效除去ZnO纳米线表面的杂质和缺陷, 提高其紫外发光强度; 而处理时间较长时, 将引入更多的深施主态缺陷, 破坏其晶体结构, 从而降低其发光性能。
%U http://www.opticsjournal.net/Articles/abstract?aid=OJ181012000022u1x4z7