%0 Journal Article
%T 高功率脉冲磁控溅射等离子体特性与动力学研究进展<br>Review Article Plasma characteristics and dynamics in a high power pulsed magnetron sputtering discharge
%A 夏原
%A 高方圆
%A 李光
%J 中国科学院大学学报
%D 2015
%R 10.7523/j.issn.2095-6134.2015.02.001
%X 摘要 高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)作为一项极具发展前途的物理气相沉积新技术, 近年来引起学术界和工业界的广泛关注.HIPIMS技术(也被称为HPPMS)可以提供足够的放电功率来获得极高的电流密度, 数值达到几个A ·cm-2;同时, 可以得到1019 m-3量级的高密度等离子体.溅射过程中独特的等离子体特性表明了该技术的突出优势, 因此可实现沉积过程的控制和薄膜性能的优化.文中对HIPIMS技术的IV放电特征, 电源设计, 以及溅射原子离化率进行深入分析.同时, 回顾讨论等离子体时间空间演变规律, 离化基团输运, 薄膜沉积速率等问题的研究进展.<br>
%K HIPIMS
%K HPPMS
%K 等离子体动力学
%K 放电特性
%K 高离化率&lt
%K br&gt
%K HIPIMS
%K HPPMS
%K plasma dynamics
%K discharge characteristic
%K high ionization rate
%U http://journal.ucas.ac.cn/CN/abstract/abstract12205.shtml