%0 Journal Article
%T 1-丁基-3-甲基咪唑硫酸氢盐与乙酸钠混合电解液中三价铬电镀的研究<br>Electrochemical Deposition of Cr from Cr(III)-Based [BMIM]HSO<sub>4</sub> and NaOAc Electrolyte
%A 刘德英
%A 罗维
%A 张文娟
%A 胡硕真
%A 徐衡
%A 张新胜&lt
%A br&gt
%A LIU De-ying
%A LUO Wei
%A ZHANG Wen-juan
%A HU Shuo-zhen
%A XU Heng
%A ZHANG Xin-sheng
%J 电化学
%D 2018
%R 10.13208/j.electrochem.180326
%X 摘要 本文研究了Cr3+在1-丁基-3-甲基咪唑硫酸氢盐（[BMIM]HSO4）电解液中的电沉积反应以及添加剂NaOAc对电镀铬的影响. 含Cr3+电解液的循环伏安结果表明，Cr(III)还原为Cr(II)的峰电位是-1.5 V (vs. Pt)， 峰电位和峰电流均满足Rendle-Sevcik扩散方程，由该方程计算得到Cr3+的扩散系数为1.6 × 10-8 cm2·s-1. 铬镀层的X射线衍射和扫描电子显微镜表征结果表明镀层由纳米球状的单质铬颗粒聚集而成，其平均粒径为0.87 μm. 在电解液中添加NaOAc后，Cr3+的还原峰电位正移了约0.25 V. 同时EDS结果表明，在NaOAc的作用下镀层中Cr/O摩尔比由4.48增加至6.28，这说明OAc-有利于单质铬的电沉积. 当电解液中NaOAc-[BMIM]HSO4-CrCl3-H2O的摩尔比为0.075:1:0.5:6时，所得的镀层最厚(63 μm)与电流效率最高(33.5%)
%K 电镀
%K 1-丁基-3-甲基咪唑硫酸氢盐
%K 醋酸钠
%K 三价铬
%K 铬镀层
%K &lt
%K br&gt
%K electrodeposition
%K 1-butyl-3-methylimidazolium hydro sulfate
%K sodium acetate
%K trivalent chromium
%K chromium coating
%U http://electrochem.xmu.edu.cn/CN/abstract/abstract10459.shtml