%0 Journal Article
%T 高品质钼靶材低压等离子喷涂成形技术研究 Study on the high-quality molybdenum target fabricated by low pressure plasma spraying
%A 王跃明
%A 闵小兵
%A 熊翔
%A 刘东华
%A 王芬
%A 闫志巧
%J 粉末冶金技术
%D 2017
%X 采用低压等离子喷涂成形技术制备了片状及回转体钼靶材,研究了钼靶材孔隙率、氧含量、微观结构、显微硬度及拉伸强度等性能,开展了片状钼靶材的磁控溅射镀膜研究。研究结果表明:低压等离子喷涂成形钼靶材为典型的定向凝固柱状晶层片结构,层片界面结合紧密,孔隙率约1.1%、氧质量分数为0.18%,显微硬度为HV0.025 361.8,抗拉强度达到373.2 MPa,各项指标均明显优于大气等离子喷涂成形钼制品。低压等离子喷涂成形片状钼靶材可磁控溅射沉积出平整、致密、连续的钼薄膜,镀膜厚度约700 nm,X射线衍射谱线表明钼薄膜为体心立方结构,沿(110)方向择优生长。磁控溅射离子的均匀轰击导致钼靶材表面快速溅射及均匀减薄,溅射表面及截面较为平整光滑,溅射凹坑均为纳米级。
%K 低压等离子喷涂
%K 钼靶材
%K 近净成形
%K 力学性能
%K 磁控溅射
%U http://fmyj.cbpt.cnki.net/WKE/WebPublication/paperDigest.aspx?paperID=02a716f0-aabe-420e-b5bf-adbf0914bc57