%0 Journal Article
%T 高温高压合成的硅酸锶铕铋的发光特性
%A 杨景海
%A 幸志明
%A 闵春宗
%A 张巨元
%A 耿义志
%A 姚斌
%A 刘宏建
%A 苏文辉
%J 材料研究学报
%D 1995
%X ？用高温高压方法合成了sr2sio4:e3+u,bi3+和srsio3:eu3+,bi3+研究了合成压力对其发光性能的影响,与用溶胶-凝胶共沉淀法和常压高温法合成的产品作比较.常压制备的srsio3:eu3+,bi3+为六角结构,而在2.34—4.10gps的合成压力范围内,它转变为反正交结构;常压下sr2sio4:eu3+,bi3+为单斜结构,在4.2gpa的合成压力下,未发现其结构相变.高压合成产物的发光强度和相对量子发光效率降低,半宽度明显增加,且伴有红移发生.发光强度的改变是压致晶场的变化引起的
%K 高温高压
%K 激活剂
%K 发光特性
%U http://www.cjmr.org/CN/abstract/abstract16052.shtml