%0 Journal Article
%T ibad合成cn_x/nbn纳米多层膜
%A 王静
%A 何建立
%A 李文治
%A 李恒德
%J 材料研究学报
%D 1998
%X ？用离子束辅助沉积技术(ionbeamassisteddeposition,ibad)制成cnx/nbn纳米多层膜.研究了工艺参数(轰击能量,基片温度)对股的结构和性能的影响,分析表明,多层膜内的nbn为多晶结构.在轰击能量为400ev,基片温度为600℃时,得到了与β—c3n的晶面间距相对应的三条电子衍射环.基片温度的上升,膜层的硬度上升;轰击能量增大.炒股层的硬度表现为先上升后下降,最大显微硬度达41.81gpa.
%K 纳米多层膜
%K 结构微组装
%K ibadnbn
%K β—c_3n_4
%U http://www.cjmr.org/CN/abstract/abstract15647.shtml