%0 Journal Article
%T 纳米结构tin薄膜的制备及其摩擦学性能
%A 张玉娟(兰州)
%A 吴志国
%A 阎鹏勋
%A 薛群基
%J 材料研究学报
%D 2004
%X ？在室温条件下,用磁过滤等离子体装置在单晶硅基底上制备了纳米结构tin薄膜.分析了薄膜的表面形貌、晶体结构,测量了tin薄膜的硬度,研究了基底偏压对薄膜结构性能的影响.结果表明,用此方法制备的tin薄膜表面平整光滑,颗粒尺寸为50$\sim$80nm;随着基底偏压的增大薄膜发生(111)面的择优取向.随着偏压的提高,薄膜的颗粒度稍有增大,摩擦系数增大,偏压提高,晶面在较密排的(111)面有强烈的择优取向,硬度也有所增大.在其它条件相同的情况下载荷越大,摩擦系数越大.不起用磁过滤等离子体法制备的纳米结构tin薄膜具有较低的摩擦系数(0.14$\sim$0.25).
%K 无机非金属材料
%K 氮化钛
%K 磁过滤等离子体
%K 纳
%U http://www.cjmr.org/CN/abstract/abstract1033.shtml