%0 Journal Article
%T 三元青铜/环境界面上物质转移的化学行为
%A 王菊琳
%A 许淳淳
%A 吕国诚
%J 材料研究学报
%D 2004
%X ？用模拟闭塞电池法(o.c.)研究了青铜在模拟环境介质0.028mol$\cdot$l$^{-1}$nacl+0.01mol$\cdot$l$^{-1}$na$_{2}$so$_{4}$+0.016mol$\cdot$l$^{-1}$nahco$_{3}$中的局部腐蚀孔内或裂纹内的化学变化.通电32h后闭塞区内溶液的ph值由7.00降至5.02,与此同时cl$^{-}$和so$^{2-}_{4}$向闭塞区内迁移,其浓集倍数分别是6.31和2.93;测定了闭塞区内外cu、sn、pb金属离子的浓度,据此计算出溶解因子$f_{\rmsn/cu}$小于1,$f_{\rmpb/cu}$大于1,表明青铜中各元素选择性腐蚀的顺序为pb$>$cu$>$sn,腐蚀速度pb$>$cu$>$sn;用xrd分析了腐蚀产物的组成,解释了青铜文物表面腐蚀产物的分层现象,即从里到外为cucl,cucl和cu$_{2}$o,cu的二价化合物.
%K 金属材料
%K 青铜
%K 环境
%K 溶解因子
%K xrd
%U http://www.cjmr.org/CN/abstract/abstract1025.shtml