%0 Journal Article
%T fe-ni-n薄膜的结构及磁性
%A 诸葛兰剑
%A 姚伟国
%A 吴雪梅
%J 材料研究学报
%D 2002
%X ？用双离子束溅射法在玻璃基片上制得了fe-ni-n薄膜，研究了ni含量、主源气氛及退火温度对fe-ni-n薄膜的结构、磁性及热稳定性的影响，选择合适的工艺条件，可制得在（100）面方向有100%晶粒取向度的单一γ’-(fe,ni)4n相。ni含量为6.7%(摩尔分数)的fe-ni-n薄膜具有较好的软磁性能，其饱和磁化强度ms为2.04t，矫顽力hc为0.68ka/m。但是随着ni含量的提高，fe-ni-n薄膜的热稳定性下降。在主源气压比pn2/par较低时，有利于氮含量较低的γ’相的形成，在较高的pn2/par条件下，则形成氮含量较高的ε-(fe,ni)2~3n相和ξ-(fe,ni)2n相。
%K fe-ni-n薄膜
%K 结构
%K 磁性
%K 晶粒取向
%U http://www.cjmr.org/CN/abstract/abstract1354.shtml