%0 Journal Article
%T 用直流溅射工艺制备的氧化铌薄膜的性能
%A 黄银松
%A 章俞之
%A 胡行方
%J 材料研究学报
%D 2002
%X ？采用直流反应溅射工艺制备了五氧化二铌薄膜，用xrd、afm、aes和循环伏安等测试手段分析并研究了薄膜的组成、结构、表面形貌和电致变色性能间的关系。结果表明：在基底加热条件下可获得晶态tt－nb2o5薄膜，沉积气压较高时的薄膜具有沿（100）面定向生长、结构相对较为疏松的柱状结构，这种薄膜具有良好的电化学稳定性，锂离子注入/抽出可逆性好，并具有灰色变色特性，在可见区（波长600nm）的透过率调制幅度为35％。
%K 微观结构
%K 表面形貌
%K 氧化铌薄膜
%K 直流反应
%U http://www.cjmr.org/CN/abstract/abstract1335.shtml