%0 Journal Article
%T 高饱和磁化强度fecon薄膜的制备
%A 王合英()
%A 马振伟()
%A 姜恩永()
%A 何元金()
%A 陈宏()
%A 马兴坤()
%J 材料研究学报
%D 1999
%X ？制备条件对fecon薄膜的结构与磁性有重要的影响.选择合适的基片温度和退火方式,可以用溅射方法制备出具有高饱和磁化强度的fecon薄膜.
%K fecon薄膜
%K 结构
%K 磁性
%K 退火
%U http://www.cjmr.org/CN/abstract/abstract1740.shtml